350 nm 공정
반도체 소자 제조 |
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350 nm(나노미터) 공정 또는 0.35 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 350 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1993년에서 1996년 경 인텔, IBM과 같은 반도체 회사가 주도하였다.
350 나노미터 제조 공정을 적용한 제품
- 인텔 펜티엄 프로 (1995년), 펜티엄 P54CS (1995년), 초창기 펜티엄 II CPU Klamath (1997년).
- AMD K5 (1996년), AMD K6 Model 6 (1997년) CPU.
- NEC VR4300 닌텐도 64 게임 콘솔.
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